CVD

Dépôt chimique en phase vapeur, procédé de dépôt de couche par décomposition d’une matière sous forme gazeuse (exemple : dépôt d’une couche métallique par évaporation thermique du métal à déposer). Le procédé CVD peut être optimisé par une réaction plasma ( PECVD = Plasma Enhanced CVD / PACVD = Plasma Activated CVD). Les principales applications du dépôt en phase vapeur sont le revêtement de pièces avec des couches amorphes type carbone, silicium ou titane, ou encore carbure et nitrure.