SYSTEMES PLASMA ZEPTO – LOW COST PLASMA CLEANER

Description du système

Applications :

Le système Plasma ZEPTO est un système de plasma semi-automatique de laboratoire d’une capacité de 2,6 litres utilisé dans les domaines suivants :

  • Micro-fluidique (PDMS)
  • l’analyse (SEM, TEM)
  • médical
  • recherche et développement
  • semiconducteur
  • traitement de plastique


Pointez sur l’image pour voir les différentes versions.


Données techniques Zepto version 1


Dimensions du système : L  425 mm, H 185 mm, P 450 mm

Dimensions de la chambre : Ø 105 mm, P 300 mm

Matière de la chambre : Borosilicate

Volume de la chambre : env. 2,6 litres

Alimentation de gaz : 2 canaux de gaz réglables par des vannes à aiguille

Générateur : 40KHz/100W ou 13,56 MHz/200W accord automatique

Pompe à vide : nous consulter

Support de pièce : 1 plateau

Contrôle: manuel du système, la durée du traitement est contrôlée par une horloge programmable / analogique.

Zepto_Griff-1

Données techniques Zepto version 2


Dimensions du système : L  425 mm, H 185 mm, P 450 mm

Dimensions de la chambre : Ø 105 mm, P 300 mm

Matière de la chambre : Borosilicate

Volume de la chambre : env. 2,6 litres

Alimentation de gaz : 2 canaux de gaz réglables par des vannes à aiguille

Générateur : 40KHz/100W ou 13,56 MHz/200W accord automatique

Pompe à vide : nous consulter

Support de pièce : 1 plateau

Contrôle: semi automatique du système, la durée du traitement est contrôlée par une horloge programmable / analogique.

Système ZEPTO

Données techniques Zepto version 3


Dimensions du système : L  425 mm, H 185 mm, P 450 mm

Dimensions de la chambre : Ø 105 mm, P 300 mm

Matière de la chambre : Borosilicate

Volume de la chambre : env. 2,6 litres

Alimentation de gaz : 1 à 2 canaux de gaz contôlés par des contrôleurs de débit massique (MFC)

Générateur : 40KHz/100W ou 13,56 MHz/200W accord automatique

Pompe à vide : nous consulter

Support de pièce : 1 plateau

Contrôle: Le système est contrôlé par un PCCE avec un écran tactile intégré de 7  pouces

Données techniques Zepto version 4, chambre 160 mm


Dimensions du système : L  425 mm, H 250 mm, P 450 mm

Dimensions de la chambre : Ø 160 mm, P 180 mm

Matière de la chambre : Borosilicate

Volume de la chambre : env. 4 litres

Alimentation de gaz :1 à 2 canaux de gaz contrôlés par des contrôleurs de débit massique (MFC)

Générateur : 40KHz/100W ou 13,56 MHz/200W accord automatique

Pompe à vide : nous consulter

Support de pièce : 1 plateau

Contrôle:  Le système est contrôlé par un PC avec un écran tactile intégré de 7  pouces (programme multi-étapes, diagramme temps réel, sauvegarde des données)

Données techniques Zepto version 5


Dimensions du système : L  425 mm, H 185 mm, P 450 mm

Dimensions de la chambre : Ø 105 mm, P 300 mm

Matière de la chambre : Borosilicate

Volume de la chambre : env. 2,6 litres

Alimentation de gaz : 1 à 2 canaux de gaz contrôlés par des contrôleurs de débit massique (MFC)

Générateur : 40KHz/100W ou 13,56 MHz/200W accord automatique

Pompe à vide : nous consulter

Support de pièce : 1 plateau

Contrôle: Le système est contrôlé par un PC (fourniture au choix du client ) /  Programme multi-étapes, diagramme temps réel, sauvegarde des données.

Données techniques Zepto version 6 RIE

Adapté au traitement des wafers 6 pouces


Dimensions du système : L  425 mm, H 310 mm, P 450 mm

Dimensions de la chambre : Ø 190mm, H 60 mm

Matière de la chambre : Aluminium

Volume de la chambre : env. 1 litres

Alimentation de gaz : 2 canaux de gaz contrôlés par des vannes à aiguilles

Générateur : 40KHz/100W accord automatique

Pompe à vide : nous consulter

Contrôle: manuel du système, la durée du traitement est contrôlée par une horloge programmable / analogique.

Zepto RIE